¿Qué es la fluorescencia de rayos X?

La fluorescencia de rayos X (XRF) es una técnica analítica que se puede utilizar para determinar la composición química de una amplia variedad de tipos de muestras, entre los que se encuentran sólidos, líquidos, lodos y polvos sueltos. La fluorescencia de rayos X también se utiliza para determinar el espesor y la composición de capas y recubrimientos. Esta puede analizar elementos desde berilio (Be) hasta uranio (U) en gamas de concentración de un 100 %p a niveles sub-ppm.

¿Cuáles son los beneficios del análisis XRF?

El análisis XRF es una técnica sólida que combina alta precisión y exactitud con preparación fácil y rápida de muestras. Se puede automatizar fácilmente para su uso en entornos industriales de alto rendimiento; además, la XRF proporciona información cualitativa y cuantitativa de una muestra. La combinación sencilla de esta información cualitativa y cuantitativa también permite un análisis de detección rápido (semicuantitativo).

Principios detrás de XRF

La XRF es un método de emisión atómica, similar en este sentido a la espectroscopia de emisión óptica (OES), al plasma de acoplamiento inductivo (ICP) y al análisis de activación de neutrones (espectroscopía gamma). Estos métodos permiten medir la longitud de onda y la intensidad de la "luz" (rayos X en este caso) emitida por átomos energizados en la muestra. En XRF, la irradiación por un haz de rayos X primario procedente de un tubo de rayos X provoca la emisión de rayos X fluorescentes con energías discretas características de los elementos presentes en la muestra. 

Determinación de composición elemental

La tecnología que se utiliza para la separación (dispersión), la identificación y la medición de la intensidad del espectro de fluorescencia de rayos X de una muestra da lugar a dos tipos principales de espectrómetro: sistemas de dispersión de longitud de onda (WDXRF) y de dispersión de energía (EDXRF).

Analizadores XRF

Ofrecemos una amplia gama de soluciones de fluorescencia de rayos X para el análisis de composición elemental de una amplia gama de materiales y aplicaciones, que abarca soluciones de longitud de onda y de dispersión de energía. Descubra nuestra cartera de soluciones en la siguiente tabla:

Zetium

Zetium

Excelencia elemental

Más detalles
Medición Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Rango primario Be-U
Resolución (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
Rendimiento de muestra 160per 8h day - 240per 8h day
Tecnología Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

Gama Epsilon

Gama Epsilon

Análisis elemental rápido y preciso junto a la línea y en la línea

Más detalles
Medición Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Rango primario Na-Am
Resolución (Mg-Ka) 145eV
LLD 1 ppm - 100%
Rendimiento de muestra Up to - 160per 8h day
Tecnología X-ray Fluorescence (XRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

Axios FAST

Axios FAST

Alto rendimiento de muestras

Más detalles
Medición Thin film metrology, Elemental analysis, Elemental quantification
Rango primario Be-U
Resolución (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
Rendimiento de muestra 240per 8h day - 480per 8h day
Tecnología Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

Más detalles
Medición Identificación química, Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Rango primario Be-U
Resolución (Mg-Ka) 35eV
Rendimiento de muestra up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Tecnología Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Zetium

Zetium

Excelencia elemental

Gama Epsilon

Gama Epsilon

Análisis elemental rápido y preciso junto a la línea y en la línea

Axios FAST

Axios FAST

Alto rendimiento de muestras

2830 ZT

2830 ZT

Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

Más detalles Más detalles Más detalles Más detalles
Medición Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification Thin film metrology, Elemental analysis, Elemental quantification Identificación química, Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Rango primario Be-U Na-Am Be-U Be-U
Resolución (Mg-Ka) 35eV 145eV 35eV 35eV
LLD 0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
Rendimiento de muestra 160per 8h day - 240per 8h day Up to - 160per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour
Tecnología Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) X-ray Fluorescence (XRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Zetium

Gama Epsilon

Axios FAST

2830 ZT

Zetium Gama Epsilon Axios FAST 2830 ZT

Excelencia elemental

Análisis elemental rápido y preciso junto a la línea y en la línea

Alto rendimiento de muestras

Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

Más detalles Más detalles Más detalles Más detalles
Tipo de medición
Thin film metrology
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification
Identificación química
Tecnología
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
Rango primario Be-U Na-Am Be-U Be-U
LLD 0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
Resolución (Mg-Ka) 35eV 145eV 35eV 35eV
Rendimiento de muestra 160per 8h day - 240per 8h day Up to - 160per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour