Wafer XRD 200 Pre-installation Manual (English)
Versionsnummer: 1
Übersicht
Basierend auf dem Azimut-Scan ist der Wafer XRD 200 eine ultraschnelle, hochpräzise und voll ausgestattete Lösung für die Wafer-Messtechnik mit einer Vielzahl von zusätzlichen Optionen.
Das voll ausgestattete und automatisierte X-Ray Diffraction System Wafer XRD 200 ist Ihr ideales System für die Wafer-Produktion und -Forschung, das Ihnen hohe Geschwindigkeit und Genauigkeit bietet.
Das System fügt sich nahtlos in Ihre Prozesslinie ein und liefert wichtige Daten wie die Kristallausrichtung, die Erkennung geometrischer Merkmale wie Kerb- oder Flachpositionen, Abstandsmessungen und weitere Optionen wie den Widerstand.
Schnell und präzise: Azimut-Scanmethode
Die Azimut-Scanmethode erfordert nur eine Messrotation, um alle erforderlichen Daten zur vollständigen Bestimmung der Ausrichtung zu erfassen. Sie liefert innerhalb von 10 Sekunden Ergebnisse – ohne Kompromisse bei der Genauigkeit.
Die Probe wird um 360° gedreht, wobei die Röntgenquelle und der Detektor so positioniert werden, dass sie eine bestimmte Anzahl von Reflexionen pro Umdrehung erreichen. Durch diese Reflexionen kann die Ausrichtung des Kristallgitters in Bezug auf die Rotationsachse mit hoher Präzision von 0,01° gemessen werden.
Vollautomatische Handhabung und Sortierung
Wafer XRD 200 kann eine volle Kassette mit 25 Wafern in weniger als 10 Minuten messen und macht dies völlig unabhängig. Dadurch ist es ein leistungsstarkes und effizientes Element in Ihrem QK-Prozess macht.
Dank des geringen Energieverbrauchs und der luftgekühlten Röntgenröhre sind die Betriebskosten des Wafer XRD 200 niedrig – es ist keine Wasserkühlung erforderlich.
Einfache Verbindung
Das Gerät kann mithilfe verschiedener MES-, SECS/GEM- und ähnlicher Schnittstellen problemlos in bestehende Prozesse in Produktionsumgebungen integriert werden.
Tiefere Einblicke
Mit dem Wafer XRD 200 verstehen Sie Ihre Materialien wie nie zuvor und können Folgendes messen:
- Kristallausrichtung
- Kerbposition, Tiefe und Öffnungswinkel
- Flachposition und Länge
- Durchmesser
- Spezifischer Widerstand usw.
Vielseitig und flexibel
Wafer XRD 200 ist gut für Produktionsumgebungen ausgestattet, in denen eine große Anzahl von Proben schnell analysiert werden muss.
Es kann Proben mit bis zu 200 mm im Durchmesser messen, wobei eine hohe Stabilität aufgrund der Messung einer definierten Materialart von unten gewährleistet ist.
- SiC
- GaAs
- Si
- Al2O3 (Saphir)
- Einh
- Andere einzelne kristalline Materialien
Wichtigste Anwendungen
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- Produktion und Verarbeitung
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Automatisierung ist in dieser schnelllebigen Branche eine Notwendigkeit – und das Wafer XRD 200 ist dabei eine praktische, leistungsstarke Lösung für die Handhabung und Sortierung von Wafern sowie für präzise Messungen der Kristallausrichtung, die optische Bestimmung von Flats und Notches, Widerstandsmessungen und andere wichtige Parameter. Erleben Sie selbst die gesteigerte Produktivität!
- Qualitätskontrolle
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Das genaue und schnelle Verständnis Ihrer Materialien ist der Schlüssel zu einer hervorragenden Qualitätskontrolle, und das Wafer XRD 200 ist die ideale Lösung dafür. Mit der ultraschnellen Omega-Scan-Methode wird die Kristallausrichtung innerhalb einer einzigen Messung bestimmt, sodass Sie Ihre Ergebnisse in fünf Sekunden erhalten. Mit zusätzlichen Funktionen wie Widerstandsmessung und Bestimmung geometrischer Merkmale bietet der Wafer XRD 200 eine beispiellose Effizienz und Vielseitigkeit für die Qualitätskontrolle in der Produktion.
- Materialforschung
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Nicht jede geschäftige Umgebung befindet sich in der Produktion: Das Wafer XRD 200 ist gleichermaßen für Analysen mit hohem Durchsatz in F&E-Umgebungen geeignet. Das Wafer XRD 200 kann Hunderte verschiedene Materialien charakterisieren, von Si, SiC und GaAs bis hin zu Quarz, LiNbO3 und BBO. Das System ist so vielseitig, dass es Ihre Materialforschung und -innovation unterstützen und Ihnen dabei zu helfen kann, die Zukunft der Halbleitertechnologie zu gestalten.
