Metrología de película fina
Análisis de película fina de rayos X
Análisis de película fina de rayos X
La metrología de rayos X es la herramienta ideal para el análisis de películas delgadas en el desarrollo y la producción masiva de diferentes tipos de microdispositivos y dispositivos optoelectrónicos estructurados por capas.
Las técnicas de metrología de rayos X se han mantenido al día con el progreso en la industria a través del desarrollo de nuevas aplicaciones y tecnologías basadas en capas.
Siguen sirviendo como herramientas esenciales desde la fase de I+D, pasando por la producción piloto, hasta la fabricación automatizada a gran escala de dispositivos semiconductores.
Las herramientas de medición basadas en métodos de rayos X, como la cristalografía de rayos (XRD, por sus siglas en inglés), la reflectrometría de rayos X (XRR, por sus siglas en inglés) y la fluorescencia de rayos X (XRF, por sus siglas en inglés), han demostrado que ofrecen acceso rápido, no destructivo, confiable y preciso a parámetros críticos de películas finas, que van desde capas simples ultradelgadas hasta pilas complejas de varias capas.
Obtenga más información acerca de nuestros instrumentos de análisis de película fina a continuación.
Espectrómetros WDXRF de pie de alta gama
Espectrómetro WDXRF simultáneo de alto rendimiento
Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores
Análisis elemental en la línea rápido y preciso
Versátil sistema XRD de investigación y desarrollo
Versátil sistema XRD de investigación, desarrollo y control de calidad
