Análisis de película fina de rayos X
La metrología de rayos X es la herramienta ideal para el análisis de películas delgadas en el desarrollo y la producción masiva de diferentes tipos de microdispositivos y dispositivos optoelectrónicos estructurados por capas.
Las técnicas de metrología de rayos X se han mantenido al día con el progreso en la industria a través del desarrollo de nuevas aplicaciones y tecnologías basadas en capas.
Siguen sirviendo como herramientas esenciales desde la fase de I+D, pasando por la producción piloto, hasta la fabricación automatizada a gran escala de dispositivos semiconductores.
Las herramientas de medición basadas en métodos de rayos X, como la cristalografía de rayos (XRD, por sus siglas en inglés), la reflectrometría de rayos X (XRR, por sus siglas en inglés) y la fluorescencia de rayos X (XRF, por sus siglas en inglés), han demostrado que ofrecen acceso rápido, no destructivo, confiable y preciso a parámetros críticos de películas finas, que van desde capas simples ultradelgadas hasta pilas complejas de varias capas.
Obtenga más información acerca de nuestros instrumentos de análisis de película fina a continuación.
ZetiumExcelencia elemental |
Axios FASTAlto rendimiento de muestras |
2830 ZTSolución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores |
Epsilon 4Análisis elemental en la línea rápido y preciso |
X'Pert³ MRDVersátil sistema XRD de investigación y desarrollo |
X'Pert³ MRD XLVersátil sistema XRD de investigación, desarrollo y control de calidad |
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| Tipo de medición | ||||||
| Metrología de película delgada | ||||||
| Tecnología | ||||||
| Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) | ||||||
| X-ray Diffraction (XRD) | ||||||
| Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) | ||||||
