La metrología de rayos X es la herramienta ideal para el análisis de películas delgadas en el desarrollo y la producción masiva de diferentes tipos de microdispositivos y dispositivos optoelectrónicos estructurados por capas. Las herramientas de medición basadas en métodos de rayos X, como la cristalografía de rayos (XRD, por sus siglas en inglés), la reflectrometría de rayos X (XRR, por sus siglas en inglés) y la fluorescencia de rayos X (XRF, por sus siglas en inglés), han demostrado que ofrecen acceso rápido, no destructivo, confiable y preciso a parámetros críticos de películas delgadas, que van desde capas simples ultradelgadas hasta pilas complejas de varias capas.

Las técnicas de metrología de rayos X han seguido el ritmo del progreso en la industria a través del desarrollo de nuevas aplicaciones y tecnologías basadas en capas y siguen sirviendo como herramientas esenciales desde la etapa de I+D a través de la producción de pilotos hasta la fabricación automatizada a escala completa de dispositivos de semiconductores.