セメント、鉱業、鉄、非鉄業界には、実験室の運用コストを削減し、分析プロセスの品質と信頼性を最適化する必要性あり、先進のラボラトリーオートメーションとプロセス管理のソリューションが必要になります。 業界向けのコストの削減と品質の最適化を提案し、分析装置の世界をリードするマルバーン・パナリティカルには、プロセス管理に専念する専門家チームが存在します。 業界向けのコストの削減と品質の最適化のために、プロセス管理チームは、サンプル搬送、前処理、解析、および結果処理を含むラボラトリーオートメーションと情報システムの完全なスペクトラムを提供します。 システムの管理は、SamTracs管理システムで実行されます。 プレゼンテーションと結果の処理は、専用のLIMS(ラボラトリー情報管理システム)パッケージSPARCSを使用して行われます。

ラボラトリーオートメーション、完全なソリューション

自動化された研究室・実験室では、完全なサンプル前処理、分析プロセス、サンプル搬送とラボラトリー内での移動を機械化・コンピュータ化することができます。 また、人の手をほとんど介さずに、結果を結合、検証、配信することができます。 これにより、お客さまのデータに高い再現性とコスト削減をもたらします。

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システムの機能

すべての自動化ラボラトリーソリューションは、個々のお客さまのニーズに合わせて最適化されます。 一般的に、完全なソリューションを構築では、搬送前のサンプル処理、サンプル搬送、サンプル前処理、そしてサンプル分析および結果の配信といった手順を踏みます。 装置の要件は、1つのプレパレーション装置を1つの分析システムに接続するシングルラインから、複数のプレパレーション装置と複数の分析システムを拡張して相互接続するマルチラインソリューションまで、多岐にわたります。

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最適な自動化ソリューションの開発

Malvern Panalyticalは、専門知識を備え、お客さまとともに慎重に選んだプロジェクトパートナーと共同で作業を進めます。 パートナーの選択においては、技術的な能力だけでなく、サポート、サービス、交換部品や、信頼できるバックアップに貢献するその他すべての要素を考慮しています。 こうした選考を徹底することで、Malvern Panalyticalは個々のクライアントのニーズに特化した信頼できる堅牢なソリューションを開発できます。 自動化への考えられる投資に向けたすべての準備は、お客さまとのやり取りを通じて実行され、お客さまのプロセスと可能な限り適合させ、ビジネスに最大限の価値をもたらします。

自動化サービス

ラボラトリーの自動化が決定した後は、移行を容易に滞りなく進められるようにMalvern Panalyticalが追加サービスを提供します。 前もって選択したソリューションのパフォーマンスとスループットを計算するために、お客さまのシミュレーションセットにラボラトリーシミュレーションサービスを提供し、ラボラトリー設計でのスループット統計を生成します。 また、既存の装置や機器を新しい自動化セットアップで再利用することもMalvern Panalyticalの専門分野です。 不明または文書化されていない自動化インターフェースのリバースエンジニアリングは、このような作業をすべて実現する可能性の1つです。 場合によっては、新しいインターフェースを追加して、自動化されていない装置を自動化することもできます。

従来のシステム

新しい自動化されたラボラトリーを構築する場合や既存のラボラトリーを適応させる場合は、状況に応じて、既存の装置を新しいセットアップに組み込む必要があります。 これらの機械が少し古い場合、機械に関連する情報が欠落するか、不完全になることがあり、元のサプライヤからのサポートを受けることが困難になる可能性があります。 これに対処するために、PANalyticalではこれらの問題を回避するための知識に投資してきました。 既存の機械の自動化インターフェースは、当社のツールを使用してリバースエンジニアリングでき、将来の設定で機械を再利用できます。 さらに、機械的変更や機械のアップグレードにより、作動状態でユニットを再度取得することもできます。

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Aeris

Aeris

卓上型・粉末XRD

詳細
測定 Crystal structure determination, 相同定, Phase quantification
X線管アノード材質 Cu /Co (option)
技術 X-ray Diffraction (XRD)

Axios FAST

Axios FAST

優れたサンプルスループット

詳細
測定 薄膜測定, Elemental analysis, Elemental quantification
元素範囲 Be-U
分解能(Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
サンプル処理 240per 8h day - 480per 8h day
技術 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Epsilon Xflow

Epsilon Xflow

生産プロセスの現場管理

詳細
測定 Elemental analysis, Contaminant detection and analysis
元素範囲 Na-Am
分解能(Mg-Ka) 135eV
LLD 1 ppm - 100%
サンプル処理 on-line
技術 Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

インシテックシリーズ

インシテックシリーズ

堅牢で信頼性の高いリアルタイム粒度分布測定

詳細
測定 粒子サイズ
測定範囲 0.1µm - 2500µm
技術 レーザ回折
分散タイプ 湿式, 乾式, スプレー, 湿式・乾式

Zetium

Zetium

卓越した機能

詳細
測定 薄膜測定, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
元素範囲 Be-U
分解能(Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
サンプル処理 160per 8h day - 240per 8h day
技術 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

ゼータサイザーAT

ゼータサイザーAT

動的光散乱を用いた粒径のオンライン測定

詳細
測定 粒子サイズ
測定範囲 0.3nm - 10µm
技術 動的光散乱法(DLS)

ゼータサイザーWT

ゼータサイザーWT

データ電位のオンライン測定で凝固を管理

詳細
測定 ゼータ電位
測定範囲 3.8nm - 100µm
技術 電気泳動光散乱

Epsilon 3X in automation

Epsilon 3X in automation

Flexible and safe automation for process control

詳細
測定 3D structure / imaging
元素範囲 C-Am
分解能(Mg-Ka) 145eV
LLD 1 ppm - 100%
サンプル処理 80per 8h day - 160per 8h day
技術 X-ray Fluorescence (XRF)

Aeris

Aeris

卓上型・粉末XRD

Axios FAST

Axios FAST

優れたサンプルスループット

Epsilon Xflow

Epsilon Xflow

生産プロセスの現場管理

インシテックシリーズ

インシテックシリーズ

堅牢で信頼性の高いリアルタイム粒度分布測定

Zetium

Zetium

卓越した機能

ゼータサイザーAT

ゼータサイザーAT

動的光散乱を用いた粒径のオンライン測定

ゼータサイザーWT

ゼータサイザーWT

データ電位のオンライン測定で凝固を管理

Epsilon 3X in automation

Epsilon 3X in automation

Flexible and safe automation for process control

詳細 詳細 詳細 詳細 詳細 詳細 詳細 詳細
測定 Crystal structure determination, 相同定, Phase quantification 薄膜測定, Elemental analysis, Elemental quantification Elemental analysis, Contaminant detection and analysis 粒子サイズ 薄膜測定, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification 粒子サイズ ゼータ電位 3D structure / imaging
X線管アノード材質 Cu /Co (option)              
元素範囲   Be-U Na-Am   Be-U     C-Am
分解能(Mg-Ka)   35eV 135eV   35eV     145eV
LLD   0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100%   0.1 ppm - 100%     1 ppm - 100%
サンプル処理   240per 8h day - 480per 8h day on-line   160per 8h day - 240per 8h day     80per 8h day - 160per 8h day
測定範囲       0.1µm - 2500µm   0.3nm - 10µm 3.8nm - 100µm  
技術 X-ray Diffraction (XRD) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) レーザ回折 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) 動的光散乱法(DLS) 電気泳動光散乱 X-ray Fluorescence (XRF)
分散タイプ       湿式, 乾式, スプレー, 湿式・乾式        

Aeris

Epsilon Xflow

Zetium

Axios FAST

Epsilon 4

インシテックシリーズ

ゼータサイザーAT

ゼータサイザーWT

Aeris Epsilon Xflow Zetium Axios FAST Epsilon 4 インシテックシリーズ ゼータサイザーAT ゼータサイザーWT

卓上型・粉末XRD

生産プロセスの現場管理

卓越した機能

優れたサンプルスループット

高速で正確なアットラインの元素分析

堅牢で信頼性の高いリアルタイム粒度分布測定

動的光散乱を用いた粒径のオンライン測定

データ電位のオンライン測定で凝固を管理

詳細 詳細 詳細 詳細 詳細 詳細 詳細 詳細
技術
X-ray Diffraction (XRD)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
レーザ回折
動的光散乱法(DLS)
電気泳動光散乱