Epsilon Xline

連続ロール・トゥ・ロール・プロセスのためのインライン制御

  • インライン機能を備えた高度なエネルギー分散型 XRF
  • ロールツーロール (R2R) コーティングにおけるリアルタイム監視
  • 継続的な最適化のための直接分析

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概要

Epsilon Xlineは、エネルギー分散型XRF (EDXRF)技術とインライン機能を組み合わせています。この高度なソリューションにより、ロールツーロール(R2R)コーティングプロセスにおける材料監視とプロセス制御がリアルタイムで可能になります。

ダイレクト分析により、材料組成と積載を連続的に最適化し、規格外の生産を最小限に抑え、コスト効率を最大化します。Epsilon Xlineは、広範な表面と元素に対して正確で精密なプロセス制御を提供できる柔軟性の高い装置です。  

機能

  • 完全なインライン自動化: Epsilon Xlineのシームレスな統合機能により、連続R2R生産が可能になり、薄膜およびコーティングのさまざまな用途に適しています。 

  • シンプルで安全: Epsilon Xlineは、ハンドヘルド装置や従来の装置とは異なり、安全で使いやすく、高精度の分析データを提供します。 

  • 一生の経験: Malvern Panalyticalの 元素分析 における70年以上の経験を生かし、Epsilon Xlineは、業界パートナーとの共同開発によって開発されました。現在のニーズを満たすと同時に、業界の未来を共に見据えています。 

  • 収率の最大化: リアルタイムモニタリングと中断のない生産により、コスト競争力のある生産を実現します。直接的な洞察と制御を提供し、業務効率を最大化します。 

  • 最適な材料効率: 当社の産業標準ソリューションで一貫性を確保し、貴重な材料の無駄をなくし、かつ、高品質な製品を確保します。 

  • 実績のある特許取得済みの精度: お客様との共同開発で生まれたEpsilon Xline。特許取得済みの高さ補正技術を搭載し、安定した分析と正確な結果を実現します。 

イプシロン Xline を選ぶ理由

  • 非破壊インラインプロセス制御 – サンプリング不要
  • 連続パッチ、マルチレーンのコーティングプロセスに対応する、幅広いスキャンモード
  • 標準の通信プロトコルを使用して、生産プロセスに簡単に統合可能 
  • プラチナやセリウムなど、関心のあるすべての貴重な元素を測定可能 
  • 優れた制度で薄層を測定可能
  • さまざまなロール幅に対応
  • 独自の特許取得済みロボットアームにより、測定ヘッドを生産ライン上に全方向に配置することで最適な距離制御を実現

燃料電池生産の課題に直面

燃料電池コスト全体の20%以上を占めるプラチナ触媒では、均一な分散と一貫した積層によって触媒コーティングを最適化することが不可欠です。また、迅速で正確なプロセス監視は理想的なソリューションです。Epsilon Xlineを使用すると、効率的な運用管理が容易になり、次のことに役立ちます。  

  • 規格外の生産を最小限に抑えます  
  • 貴重なプラチナを無駄にしません  
  • コスト競争力のある最終製品を作成します 

プロセス中の元素分析

蛍光X線 XRF(X線蛍光分析)は、触媒膜のコーティングプロセス中において、サンプルを採取せずに即座にモニタリングすることができる革新的な技術です。化学的な変化や物理的な影響なく、分析が可能で、製品の品質向上や生産プロセスの効率化に貢献します。  

XRFによるリアルタイムインライン分析により、プロセスパラメータや製品特性を迅速に最適化することができます。 

容易なメンテナンスで再現性の高い正確な測定が可能です。

Epsilon XlineおよびEpsilon装置シリーズに採用されている実証済みの堅牢な技術は、最新の高度な励起および検出技術を駆使しています。

製品の信頼性と性能を最大限に引き出し、あらゆる分析ニーズに応えますEpsilon Xlineの力を支えるのは、洗練された光学経路、幅広い励起能力、高速な高解像度SDD検出器です。最高水準の性能を実現し、多岐にわたる分析ニーズに対応しますこれらの革新的技術により、容易なメンテナンスで高い再現性および精度が可能です。 

仕様

サンプルの取り扱い

サンプルタイプ
コーティングライン
Coating types
連続、レーン、パッチ
Line speed continuous coating
最大30 m/分
Line speed patch coating
最大11 m/分

X線管球

Type
メタルセラミック、サイドウィンドウ 50 µm (Be)
Anode material Ag
Tube setting
ソフトウェア制御、適用電圧4~50 kV、最大3 mA、最大管出力15 W
X-Ray filtering
6つのソフトウェアが選択可能(Cu 300 µm、Cu 500 µm、Al 50 µm、Al 200 µm、Ti 7 µm、AG 100 µm)

検出器

Type
高分解能Siドリフト検出器SDD10
ウィンドウ 8 µm (Be)
分解能
5.9 keV/1000 cpsで145 eV未満
通常、5.9 keV/1000 cpsで135 eV

Safety Standards

Radiation levels
外側表面10 cmで1 µSv/h未満

アクセサリ

内蔵接続

Epsilon Xlineは、内蔵のOPC接続により、生産ラインにシームレスに統合できます。付属の専用ソフトウェアパッケージにより、さまざまな材料や測定モード用にEpsilon Xlineを簡単にセットアップできます。装置に直接、またはリモートコンソールからコマンドを入力することで、使いやすいインターフェイスに完全な追跡データの概要が表示されます。  

Epsilonソフトウェア

Epsilonベンチトップシステム用分析EDXRFソフトウェアパッケージ

Epsilonソフトウェアは、XRF分析ソフトウェアのプラットフォームであり、PANalyticalのEpsilon 1およびEpsilon 4ベンチトップタイプEDXRFシステムシリーズで使用されています。このソフトウェアは、Epsilonベンチトップシステムの設定と操作に必要なすべての機能を備えています。分析プログラムの組み立ては、ソフトウェアに組み込まれた高度なインテリジェンスにより非常に容易に実行でき、ユーザーは半世紀にわたり蓄積されたアプリケーションの専門知識を活用できます。毎日実行するXRF分析は、経験の浅い作業者でも最小限のトレーニングで簡単に実行できるルーチンタスクです。ソフトウェアを簡単に使用できるようにする、多くの機能が用意されています。

Stratos

皮膜および多層膜の組成と厚さを測定

Stratosソフトウェアモジュールは、測定から得られた化学組成と層状材料の厚さを同時に測定できるアルゴリズムを採用しています。このソフトウェアは、迅速でシンプルな非破壊的な方法でコーティング、表面層、および多層構造を分析できます。Virtual Analystは、複雑なスタック用の測定プログラムの設定時に情報を提供します。 


Stratosは、Epsilon 4 EDXRF、およびZetium XRF分光計で使用可能で、サンプルタイプやマトリクスに関係なく、即座に信頼性の高い結果を得ることができます。

ユーザーマニュアル

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サポート

設備

投資利益率を最大限にするソリューション

お客様の装置が最高の状態を保ち、最高レベルで機能するために、Malvern Panalyticalではさまざまなサービスを提供しています。 当社の専門知識とサポートサービスは、装置が最適に機能するよう保証します。

サポート

寿命終了までのサービス

  • 電話とリモートサポート
  • 予防メンテナンスと点検
  • 柔軟なカスタマーケア契約
  • パフォーマンス認定書
  • ハードウェアおよびソフトウェアアップグレード
  • ローカルおよびグローバルサポート

専門知識

工程に価値を付加する

  • サンプル調製の開発/最適化
  • 分析方法論 
  • XRD用ターンキーソリューション 
  • IQ/OQ/PQによるオペレーション、品質保証(GLP、ISO17025)、またはラウンドロビン/研究所間の連携
  • コンサルティングサービス

トレーニングと教育

  • オンサイトまたは当社の研修センターでのトレーニング
  • 製品、アプリケーションおよびソフトウェに関する広範な基本コースおよび上級コース
容易なインライン制御。

容易なインライン制御。

インラインでの製品検査のための高度な元素分析。継続的で信頼性の高い監視を容易に実現。

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