XRD、XRR、XRFのようなX線方式に基づく薄膜フィルム計測ツールは、迅速で非破壊的な計測方法です。 これらのツールは、薄膜層、ヘテロ構造、および超格子システムの重要物質パラメータをナノメートルスケールに至るまで実施する現場外調査に力を発揮することが証明されています。 その結果得られる情報は、層品質を最適化し、生産効率を上げ、コストを削減する上で非常に有用です。 Malvern Panalyticalは、層構造機器、マイクロベース機器、光電子機器の開発と生産制御のための計測ソリューションを提供します。

2830 ZT

2830 ZT

先進の半導体薄膜測定ソリューション

詳細
測定 化合的同定, 薄膜測定, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
元素範囲 Be-U
分解能(Mg-Ka) 35eV
サンプル処理 up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
技術 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

先進の半導体薄膜測定ソリューション

詳細
測定 化合的同定, 薄膜測定, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
元素範囲 Be-U
分解能(Mg-Ka) 35eV
サンプル処理 up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
技術 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

2830 ZT X'Pert³ MRD X'Pert³ MRD XL

先進の半導体薄膜測定ソリューション

多目的研究開発XRDシステム

薄膜単結晶解析X線回折装置

詳細 詳細 詳細
技術
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
測定タイプ
薄膜測定
化合的同定
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification