PIXcel3D
0D-1D-2Dおよび3Dデータを回析計に取り込む最初の検出器
PIXcel3Dは、独自の2D固体ハイブリッドピクセル検出器です。 各ピクセルは、55 ミクロン x 55 ミクロンで、検出器アレイは256 x 256 ピクセルです。 現在、Medipix3テクノロジーに基づく検出器は、1ピクセルの点像分布関数と、複数のエネルギー識別レベルにより、卓越した信号をノイズにもたらします。
概要
長い歴史と高い評価を誇るMalvern Panalyticalの物質調査回折装置(MRD)は、新世代のX’Pert³ MRDとX’Pert³ MRD XLでも使用されています。 新しいプラットフォームの向上したパフォーマンスと信頼性により、X線散乱法研究用の分析能力と機能が強化され、次の分野に対応します。
- 最先端材料科学
- 科学および産業用薄膜技術
- 半導体プロセス開発での計量特性評価
両方のシステムでは、100 mmまで(X’Pert³ MRD)または200 mmまで(X’Pert³ MRD XL)の完全なウェハーマッピングにより、同様に広範囲の用途に対処します。
将来のニーズに対応する優れたシステムの柔軟性
X'Pert³ MRDシステムは、研究からプロセス開発やプロセス管理に至るまで、高度で革新的なX線回折ソリューションを提供します。
使用されている技術により、すべてのシステムフィールドを既存のすべてのオプションと、今後のハードウェアとソフトウェの新しい機能に対応するようアップグレードできるようになります。
特徴
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研究開発向けにカスタマイズ
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薄膜サンプル、ウェーハ、固体材料に使用
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最大100 mmまでの完全なウェーハマッピング
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多用途かつ柔軟なサンプルの位置決め
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光学コンポーネント用のオプションの拡張アーム
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ハイデンハインエンコーダを使用した新しい高解像度ゴニオメーターによる卓越した精度
主な用途
Malvern PanalyticalのX’Pert³ MRDとMRD XLはオールインワンのX線ソリューションシステムで、次のように多くの産業用途に使用できます:
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- 半導体と単結晶ウェハー
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成長研究にしろ装置設計にしろ、高分解能XRDを使用した、層品質、厚さ、ひずみ、合金組成の測定が、エレクトロニクスと光エレクトロニクスの多層半導体デバイスでの研究開発の中心にありました。 X線ミラー、モノクロメータ、検出器の選択により、X’Pert3 MRDとMRD XLでは、格子整合半導体から弛緩バッファ層、非標準基盤の新規外来層まで、さまざまな材料システムに適合する高分解能構成が提供されます
- 多結晶固体と薄膜
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多結晶の層とコーティングは、多くの薄膜と多層装置の重要要素です。 付着中の多結晶層形態学の進展は、機能材料の研究開発の主要研究分野です。 X’Pert3 MRDとX’Pert3 MRD XLには、さまざまなスリット、平行ビームX線ミラー、ポリキャピラリレンズ、交差スリット、モノキャピラリを完全装備でき、反射率法、応力、触感、相同定に入射ビーム光学系の完全な選択肢がもたらされます。
- 極薄膜、ナノマテリアル、非結晶層
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機能装置には、不規則、非結晶、ナノ複合体のいずれかの薄膜を含めることができます。 X’Pert3 MRDシステムとMRD XLシステムの柔軟性により、複数の分析手法を組み込むことができます。 さまざまな高分解能光学系、スリット、パラレルプレートコリメータを使用でき、斜入射法、In-Plane回析、反射率法に最適なパフォーマンスがもたらされます。
- 非室温条件での測定
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さまざまな条件下での材料の動作の研究は、材料の研究とプロセス開発の不可欠な部分です。 X’Pert3 MRDとMRD XLは、DHS1100非室温サンプルステージをAnton Paarから簡単に組み込むように設計され、さまざまな温度と不活性雰囲気で自動測定が可能です
Instrument gives excellent accuracy and is of good quality.Good intensity and rapid performance. It is easy to operate.
Yifan Zheng — Zhejiang University of Technology
