X'Pert³シリーズ

多目的研究開発用 XRD システム

評価を得ているX'Pertプラットフォームが、Malvern PanalyticalのX'Pert³シリーズのX線回折システムでも採用されています。 新しい制御回路を搭載し、最新の最も厳格なX線基準と安全基準に準拠し、環境に配慮し高い信頼性を誇るX'Pert³プラットフォームが用意されています。

• 最長の耐用期間を誇るCRISPを搭載した入射光コンポーネント 
• エアー式シャッターとビームアッテネータによる最大稼働時間 
• 第2世代PreFIX技術により新しいアプリケーションに簡単に拡張 
• 迅速で信頼性が高く、ツール不要な管球フォーカスの変更
• インターネットに直接接続できる新しい制御回路
• 最も厳格な安全規制に準拠

X'Pert³ MRD

X'Pert™ MRD システムは、研究からプロセス開発、プロセス制御まで、高度で革新的な X 線回折ソリューションを提供します。

特徴としては以下が挙げられます

  • ウェハ最大直径:100mm
  • SECS/GEM
  • クリーンルーム ISO 4
X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

追加の PreFIX 取り付けプラットフォームにより、X 線ミラーと高解像度モノクロメーターをインラインで取り付けることができ、入射ビームの強度が大幅に増加します。

特徴としては以下が挙げられます

  • ウェハ最大直径:300mm
  • SECS/GEM
  • クリーンルーム ISO 4
X'Pert³ MRD XL

当社の製品の比較

  • X'Pert³ MRD

    多目的研究開発XRDシステム

    X'Pert³ MRD

    技術

    • XRD分析

    測定タイプ

    • 相同定
    • 位相の定量化
    • 薄膜測定
    • 残留応力
    • 界面粗さ
    • エピタキシー分析
    • 配向分析
    • 逆格子空間解析

    Wafer max. diameter

    • 100 mm
    • SECS/GEM
    • Cleanroom ISO 4
  • X'Pert³ MRD XL

    薄膜単結晶解析X線回折装置

    X'Pert³ MRD XL

    技術

    • XRD分析

    測定タイプ

    • 相同定
    • 位相の定量化
    • 薄膜測定
    • 残留応力
    • 界面粗さ
    • エピタキシー分析
    • 配向分析
    • 逆格子空間解析

    Wafer max. diameter

    • 300 mm
    • SECS/GEM
    • Cleanroom ISO 4