Analyse de couches minces par rayons X
Les technologies de métrologie à rayons X se sont adaptées aux avancées de l'industrie grâce au développement de nouvelles applications et technologies basées sur les couches, et constituent encore aujourd'hui des outils essentiels, de la phase de R&D jusqu'à la fabrication automatisée à grande échelle de semi-conducteurs, en passant par les productions pilotes.
![]() ZetiumL'excellence élémentaire |
![]() Axios FASTCadence d'analyse élevée |
![]() 2830 ZTSolution avancée de métrologie des couches minces de semi-conducteurs |
![]() Epsilon 4Analyse élémentaire à proximité de ligne rapide et précise |
![]() X'Pert³ MRDLa nouvelle génération de diffractomètres polyvalents pour la recherche en matériaux |
![]() X'Pert3 MRD (XL)La nouvelle génération de diffractomètres polyvalents pour la recherche en matériaux |
|
---|---|---|---|---|---|---|
Plus de détails | Plus de détails | Plus de détails | Plus de détails | Plus de détails | Plus de détails | |
Type de mesure | ||||||
Métrologie des couches minces | ||||||
Technologie | ||||||
Fluorescence X à dispersion de longueur d'onde (WDXRF) | ||||||
Diffraction des rayons X (XRD) | ||||||
Fluorescence X à dispersion d'énergie (EDXRF) |