Métrologie des couches minces

La métrologie à rayons X est l'outil idéal pour l'analyse des couches minces dans le cadre du développement et de la production de masse de différents composants micro et optoélectroniques à structure en couches. Les outils de mesure basés sur les méthodes à rayons X, telles que la diffraction des rayons X, la réflectométrie des rayons X et la fluorescence X, ont démontré leur capacité à fournir un accès rapide, fiable, précis et non destructif aux paramètres essentiels des couches minces, des couches simples ultra minces aux empilements multicouches complexes.

Les technologies de métrologie à rayons X se sont adaptées aux avancées de l'industrie grâce au développement de nouvelles applications et technologies basées sur les couches, et constituent encore aujourd'hui des outils essentiels, de la phase de R&D jusqu'à la fabrication automatisée à grande échelle de semi-conducteurs, en passant par les productions pilotes.