Métrologie des couches minces

Analyse de couches minces par rayons X

La métrologie à rayons X est l'outil idéal pour l'analyse des couches minces dans le cadre du développement et de la production de masse de différents composants micro et optoélectroniques à structure en couches. Les outils de mesure basés sur les méthodes à rayons X, telles que la diffraction des rayons X, la réflectométrie des rayons X et la fluorescence X, ont démontré leur capacité à fournir un accès rapide, fiable, précis et non destructif aux paramètres essentiels des couches minces, des couches simples ultra minces aux empilements multicouches complexes.

Les technologies de métrologie à rayons X se sont adaptées aux avancées de l'industrie grâce au développement de nouvelles applications et technologies basées sur les couches, et constituent encore aujourd'hui des outils essentiels, de la phase de R&D jusqu'à la fabrication automatisée à grande échelle de semi-conducteurs, en passant par les productions pilotes.

Zetium

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L'excellence élémentaire

Axios FAST

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Cadence d'analyse élevée

2830 ZT

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Solution avancée de métrologie des couches minces de semi-conducteurs

Epsilon 4

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Analyse élémentaire à proximité de ligne rapide et précise

X'Pert³ MRD

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La nouvelle génération de diffractomètres polyvalents pour la recherche en matériaux

X'Pert3 MRD (XL)

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La nouvelle génération de diffractomètres polyvalents pour la recherche en matériaux

Type de mesure
Métrologie des couches minces
Technologie
Fluorescence X à dispersion de longueur d'onde (WDXRF)
Diffraction des rayons X (XRD)
Fluorescence X à dispersion d'énergie (EDXRF)