Métrologie des couches minces
Analyse de couches minces par rayons X
Analyse de couches minces par rayons X
La métrologie à rayons X est l'outil idéal pour l'analyse des couches minces dans le cadre du développement et de la production de masse de différents composants micro et optoélectroniques à structure en couches.
Les technologies de métrologie à rayons X se sont adaptées aux avancées de l'industrie grâce au développement de nouvelles applications et technologies basées sur les couches.
Elles constituent encore aujourd'hui des outils essentiels, de la phase de R&D jusqu'à la fabrication automatisée à grande échelle de semi-conducteurs, en passant par les productions pilotes.
Les outils de mesure basés sur les méthodes à rayons X, telles que la diffraction des rayons X, la réflectométrie des rayons X et la fluorescence X, ont démontré leur capacité à fournir un accès rapide, fiable, précis et non destructif aux paramètres essentiels des couches minces, des couches simples ultra minces aux empilements multicouches complexes.
Pour en savoir plus sur nos instruments d'analyse des couches minces, consultez la rubrique ci-dessous.
Spectromètres WDXRF sur pied haut de gamme
Spectromètre WDXRF simultané à haut débit
Solution avancée de métrologie des couches minces de semi-conducteurs
Analyse élémentaire à proximité de ligne rapide et précise
La nouvelle génération de diffractomètres polyvalents pour la recherche en matériaux
La nouvelle génération de diffractomètres polyvalents pour la recherche en matériaux
