製造プロセス粉粒体をモニタリング インシテックスプレー

製造プロセスを流れる粉粒体の粒度分布測定

ベッセルや配管中を流れる粉粒体の連続モニタリングを行うことが可能な、可変経路粒子径センサーです。 0.1 ~ 2500µm の粒子の測定に最適です。

見積依頼 デモ依頼 お問い合わせ

概要

インシテック スプレーは製造プロセスを流れる粉粒体の完全自動リアルタイム粒度分布測定を行い、既存のプロセスに容易に統合することができます。 コンベアやベルト、ベッセルなどから自由に流れる粉粒子体をモニタリングすることができます。

  • 特定の製造仕様を満たすようにGAMP5基準に準拠。また、CIP/SIPに対応
  • オペレーターの介在を不要とした、使いやすいソフトウェアと完全自動化運転
  • 既存のプラント制御システムとの統合が容易
  • 95% 以上の高い信頼性、メンテナンスに要するダウンタイムは最低限。高い費用対効果
  • 可変経路長セルにより、アプリケーション要件にあわせてカスタマイズ、既存プロセスと統合できる柔軟性

動作

インシテックの設置は、 アプリケーションの独自の要件に合わせて行われます。 Malvern Panalyticalはお客様のご要望にあったシステム構築に対応できるよう、ハードウェアからソフトウェアまでご提供可能です。 費用対効果を見込めるプロジェクトをご提案させていただきます。

正確なオンライン・ インライン粒度分布測定を行うためには、重要な条件があります。

  • プロセスインターフェース
  • 測定の信頼性
  • データ説明と使用

インシテックは製造プロセスに取り付ける機器で、 プラント内でご利用いただく装置です。 装置とプラントの間のインターフェースを正しく設定することは、長期間トラブルのない運転のために不可欠です。

Malvern Panalyticalには、パウダーストリーム分析で実績のあるインシテック技術があります。 パウダーストリーム用のインシテック スプレーの柔軟な構成オプションにより、流動する材料周辺へのトランスミッターおよび検出器の配置を最小の作業で行うことが簡単になります。 この装置は、試験用スケールと商業スケールの両方のアプリケーションに対応しています。 巧みに設計されたインターフェイスにより、信頼性の高い測定を行えるようにし、プロセスへの影響を最小限に抑えます。

インシテックは、 粒子径を迅速に測定するためにレーザ回折の技術を採用しています。 スプレー システムと連携することで、1 秒以内に粒度を測定し、瞬間的なモニタリングが可能となります。 スプレー パターンに微細な一時的変動があっても、効率的に追跡できます。

インシテック スプレーは、スプレーまたはエアロゾルを直接測定します。 そのような場合、高濃度の粒子を含む場合があるため、正確な粒度を測定できない場合がありました。 しかし、すべてのインシテックに搭載されている特許取得の多重散乱アルゴリズムにより、粒子の光散乱に影響を与える濃度の影響を数学的に補正します。 測定値はサンプル濃度に依存しなくなります。 それにより、高濃度のスプレーやエアロゾルに対しても信頼性の高い粒度分布を提供することができます。

インシテックは、信頼性が高く、タイムリーで完全な粒度分布を報告します。 そのため、プロセスを制御するための重要な情報を提供します。

データ説明と使用
インシテックシステムは、プロセスプラント内に組み込まれます。 そしてインシテックは中央管理室から操作され、測定結果が日々のプラントコントロールの決定の要素となります。 強力なソフトウェア パッケージによって、一体化とデータ解釈を簡単にします。

Malvern Link IIソフトウェアは、お客様がお使いの既存の制御システム内でインシテックを統合し、プロセス制御を自動化するためのソフトウェアです。 Malvern Link IIソフトウェアにより、専用PCまたは制御パネルからオンライン・インライン粒度分布測定機の操作が可能です。 特に重要な点としては、Malvern Link IIはインシテックのインテグレートだけでなく、 他の種類の装置との一体化も容易にして、多変数制御も行えます。

マルバーンのRTSizerソフトウェアは、明確で利用しやすい方法で測定データを提供します。 タイムヒストリーにより、動的なスプレーの挙動を監視が可能です。 お客様のご要望に合うように、測定結果のレポートをカスタマイズすることが可能です。 インシテックの測定データは以下の場合にご利用いただけます。

  • プロセス状況の理解をより向上する場合
  • 異常値の即時検出の実現
  • 包括的なプロセス最適化のサポート
  • 自動プロセス制御

粒度分布測定が可能なため、どのようなサイズの粒子径もモニタリングが可能です。 最適化されているプロセスの手動制御方法をさらにインシテックは促進し、プロセス制御の完全自動化を可能にします。それにより、費用対効果も見込まれます。

仕様

システム

測定タイプ 粒子サイズ
測定範囲 0.1 ~ 2500 µm
測定原理 レーザ回折法
光学モデル Mie 理論
精度 ±2%(検証レチクルによるDv50)

一般

電源 100/240V
筐体等級 IP65
動作プラットフォーム 10 bar(g)
ソフトウェア RTSizer (装置制御用) Malvern Link II (システム自動化およびデータリンク用)
機器と PC の最大距離 500m(光ケーブルを使用した場合、最大 2km)

使用環境

温度 10 ~ 70℃
湿度 35 ~ 80%(結露なし)