はじめに 

蛍光X線(XRF)分光装置は、異なるタイプの材料から元素情報を取得するために使用される非破壊分析技術です。 この装置はセメント製造、ガラス製造、採掘、鉱物選鉱、鉄、鋼および非鉄金属、石油および石油化学製品、ポリマーおよび関連業界、製薬、ヘルスケア製品、および環境などのさまざまな業界や用途に採用されています。 分光装置システムは、主に波長分散型システム(WDXRF)とエネルギー分散型システム(EDXRF)の2つのグループに分けられます。 これらの違いは検出システムの違いです。 

WDXRFとその動作原理

すべての分光装置の基本概念は、放射線源、サンプル、および検出システムです。 WDXRF分光装置では、光源として機能するX線管がサンプルに直接X線を照射し、サンプルからの蛍光が波長分散型検出システムで測定されます。 個別の元素から発生した特性放射線は、X線をその波長に基づいて、または反対にそのエネルギーに基づいて分離する分光結晶を使用して特定することができます。 このような分析は、連続する(シーケンシャルな)異なる波長で、または固定した位置でX線の散乱強度を測定するか、常に同時に異なる波長でX線の散乱強度を測定することで実行できます。 ​

WDXRF分光装置の利点​

  • 高解像度(特に軽元素)
  • 検出下限(特に軽元素)
  • 堅牢な分析
  • 高スループット

Axios FAST

Axios FAST

優れたサンプルスループット

詳細
測定 薄膜測定, 元素分析, 元素定量
元素範囲 Be-U
分解能(Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
サンプル処理 240per 8h day - 480per 8h day
技術 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Zetium

Zetium

卓越した機能

詳細
測定 薄膜測定, 元素分析, 汚染物質の検出と分析, 元素定量
元素範囲 Be-U
分解能(Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
サンプル処理 160per 8h day - 240per 8h day
技術 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

先進の半導体薄膜測定ソリューション

詳細
測定 化合的同定, 薄膜測定, 元素分析, 汚染物質の検出と分析, 元素定量
元素範囲 Be-U
分解能(Mg-Ka) 35eV
サンプル処理 up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
技術 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Axios FAST

Axios FAST

優れたサンプルスループット

Zetium

Zetium

卓越した機能

2830 ZT

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先進の半導体薄膜測定ソリューション

詳細 詳細 詳細
測定 薄膜測定, 元素分析, 元素定量 薄膜測定, 元素分析, 汚染物質の検出と分析, 元素定量 化合的同定, 薄膜測定, 元素分析, 汚染物質の検出と分析, 元素定量
元素範囲 Be-U Be-U Be-U
分解能(Mg-Ka) 35eV 35eV 35eV
LLD 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
サンプル処理 240per 8h day - 480per 8h day 160per 8h day - 240per 8h day up to 25 wafers per hour
技術 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)