晶體方向系列

快速精確的晶體取向

晶體方向系列

晶體由重複的原子排列組成,這表示從電子或光子進入該晶體的視角來看,所看到的內容將取決於我們觀察晶體的角度。觀察到的景象可能是穿透整個晶體的通道,也可能僅為材料的最上面三層;因此,材料特性可能會根據角度而有明顯差異。若要有效控制材料特性,則必須對晶體定向進行良好的管控。

這項製程在離子佈植、微影、磊晶等方面非常重要,在製造雷射或光學元件時也是如此。

晶體方向系列的基礎為方位角掃描,這是一種用於定向晶體的智慧幾何測量技術。這表示我們不僅可以找到主軸的傾斜度,還能在最快 10 秒內找到所有平面內方向。只要是晶圓、晶錠、晶棒、圓盤等單晶體,該儀器幾乎可以測量任何形狀。

設計優良,適用於單晶體或晶圓製造商等工業應用、研究目的以及晶圓和其他設備的品質控制。 

我們高精確的晶體定向系統提供簡單且快速的晶體方向測量,確保在後續處理步驟中具備所需特性。

DDCOM

Ultra-fast, bottom surface measuring crystal orientation in a compact package

特點包括

  • Benchtop device
  • Higher throughput due to no height alignment
DDCOM

SDCOM

Ultra-fast, flexible, top surface measuring crystal orientation in a compact package

特點包括

  • Benchtop device
  • Outstanding accuracy, fit for samples from 2 mm² up to 300 mm Ø wafers
SDCOM

Omega/Theta

Fully automated vertical three-axis X-ray diffractometer for ultra-fast crystal orientation

特點包括

  • As fast as 10 seconds per full crystal measurement
  • Higher throughput and outstanding accuracy compared to conventional systems
  • Flexible with accessories for marking, mapping, alignments for transfers of all single crystalline materials
Omega/Theta

Wafer XRD 200

Fast, precise and fully equipped solution for wafer orientation and sorting

特點包括

  • High capacity wafer metrology; full cassette of 25 wafers measured in less than 10 minutes
  • Optimal for Wafer Production: measure crystal orientation, recognize wafer ID, flat/notch and shape of wafer edge
Wafer XRD 200

Wafer XRD 300

Integratable wafer orientation solution

特點包括

  • High throughput wafer metrology system
  • Supports 300mm Si wafers
  • Optimal for Wafer Production: measure crystal orientation, recognize wafer ID, flat/notch and shape of wafer edge
Wafer XRD 300

XRD-OEM

Fully automated in-line orientation and handling of ingots, boules, and pucks

特點包括

  • Measurement head for crystal orientation
  • Built for integration into e.g. cutting and grinding machines
XRD-OEM

我們的產品如何比較

  • DDCOM

    在輕巧套件中判斷超高速底面測量晶體方向

    DDCOM
    • X光繞射(XRD)
    • 晶體方向

    系統類型

    • 桌上型
    • 映射載台
    • 研磨載台
    • 堆疊載台

    光管功率

    • 30kV / 1mA

    冷卻系統

    • 氣冷
    • 標記

    光學幾何辨識

    • 搖擺曲線 (樣本的晶體品質)
    • Theta 掃描 (僅適用於基本光學定向)

    處理量速度

    • 超過 10 秒
  • SDCOM

    在輕巧套件中判斷超高速頂面測量晶體方向

    SDCOM
    • X光繞射(XRD)
    • 晶體方向

    系統類型

    • 桌上型
    • 映射載台
    • 研磨載台
    • 堆疊載台

    光管功率

    • 30kV / 1mA

    冷卻系統

    • 氣冷
    • 標記

    光學幾何辨識

    • 晶棒的選配項目
    • 搖擺曲線 (樣本的晶體品質)
    • Theta 掃描 (僅適用於基本光學定向)

    處理量速度

    • 高度校準 + 10 秒
  • Omega/Theta

    超高速晶體定向的全自動垂直三軸 X 光繞射儀

    Omega/Theta
    • X光繞射(XRD)
    • 晶體方向

    系統類型

    • 立地式
    • 映射載台
    • 研磨載台
    • 堆疊載台

    光管功率

    • 30kV / 10mA

    冷卻系統

    • 水冷式
    • 標記

    光學幾何辨識

    • 晶棒的選配項目
    • 搖擺曲線 (樣本的晶體品質)
    • Theta 掃描 (僅適用於基本光學定向)

    處理量速度

    • 高度校準 + 10 秒
  • Wafer XRD 200

    快速、精準、配備齊全的晶圓定向與分選解決方案

    Wafer XRD 200
    • X光繞射(XRD)
    • 晶體方向

    系統類型

    • 立地式
    • 映射載台
    • 研磨載台
    • 堆疊載台

    光管功率

    • 30kV / 1mA

    冷卻系統

    • 氣冷
    • 標記

    光學幾何辨識

    • 光學幾何辨識
    • 搖擺曲線 (樣本的晶體品質)
    • Theta 掃描 (僅適用於基本光學定向)

    處理量速度

    • 10 分鐘 25 片晶圓
  • Wafer XRD 300

    您的整合式晶圓定向解決方案

    Wafer XRD 300
    • X光繞射(XRD)
    • 晶體方向

    系統類型

    • 立地式
    • 映射載台
    • 研磨載台
    • 堆疊載台

    光管功率

    • 30kV / 1mA

    冷卻系統

    • 水冷式
    • 標記

    光學幾何辨識

    • 光學幾何辨識
    • 搖擺曲線 (樣本的晶體品質)
    • Theta 掃描 (僅適用於基本光學定向)

    處理量速度

    • --
  • XRD-OEM

    晶錠、晶棒與圓盤全自動線上定向與處理

    XRD-OEM
    • X光繞射(XRD)
    • 晶體方向

    系統類型

    • 量測頭
    • 映射載台
    • 研磨載台
    • 堆疊載台

    光管功率

    • 30kV / 1mA

    冷卻系統

    • 氣冷
    • 標記

    光學幾何辨識

    • 即將推出
    • 搖擺曲線 (樣本的晶體品質)
    • Theta 掃描 (僅適用於基本光學定向)

    處理量速度

    • 視機器而定