Semicondutores compostos

Metrologia de filme fino para semicondutores compostos

A crescente demanda do mercado por dispositivos (opto)eletrônicos de alto desempenho, alta potência e alta frequência está levando a indústria de semicondutores compostos de hoje a enfrentar novos desafios. GaN e SiC são os materiais de escolha para eletrônicos de alta potência. Os VCSELs baseados em GaAs são amplamente usados para reconhecimento facial em telefones celulares, enquanto a tecnologia GaN revolucionou os dispositivos HEMT de alta frequência e iluminação LED. O desenvolvimento de filmes cristalinos finos com propriedades ópticas e elétricas personalizadas, a melhoria contínua de processos de produção de alto volume e o gerenciamento de qualidade aprimorado são todos necessários para aumentar o rendimento e controlar os custos desses dispositivos. A metrologia de raios X é uma ferramenta comprovada e ideal para ajudar o setor a atingir essas metas.

As ferramentas de metrologia baseadas em técnicas de raios X (XRD, XRRe XRF) foram comprovadas como confiáveis e poderosas. Nenhuma outra técnica oferece uma combinação exclusiva de benefícios: medição não destrutiva, exatidão, precisão e análise absoluta para a investigação ex situ de camadas epitaxiais, heteroestruturas e sistemas de supercela.

Análise ultrarrápida de alta precisão de wafers semicondutores compostos

Desde os primórdios, a Malvern Panalytical tem trabalhado em estreita colaboração com o setor de semicondutores compostos para transformar a XRD e a XRF em ferramentas de apoio à metrologia. Conhecer e entender os problemas analíticos de nossos clientes nos ajuda a oferecer soluções de controle eficientes e automatizadas para pesquisa e desenvolvimento até a produção de volumes de semicondutores.

  • X'Pert3 (X'Pert3 MRD e X'Pert3 MRD XL) é uma plataforma de XRD para curva de oscilação de alta resolução, refletividade de raios X e análise de mapa recíproco ultrarrápido (URSM). Ele fornece informações absolutas e precisas sobre os parâmetros de crescimento do cristal, como composição do material, espessura do filme, perfil de classificação, fase e qualidade da interface. Parâmetros de qualidade cristalina, como mosaicidade e densidade do defeito, também podem ser estimados nessas medições. Além disso, uma plataforma de MRD também pode ser usada para formação de imagens topográficas de alta resolução de defeitos em substratos e filmes finos. O instrumento pode ser usado em ambientes de pesquisa e produção. No processo de produção, ele pode ser combinado com o carregamento automático de wafer.
  • A XRF (2830 ZT) fornece informações de espessura e composição de uma ampla gama de filmes finos, com níveis de contaminação e dopantes e uniformidade da superfície. 

Conteúdo em destaque

Nossas soluções

2830 ZT

Solução de metrologia de filme fino de semicondutores avançados
2830 ZT

X'Pert³ MRD

Versátil sistema XRD de pesquisa e desenvolvimento
X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

Versátil sistema XRD de pesquisa, desenvolvimento e controle de qualidade
X'Pert³ MRD XL