エピタキシー分析

エピタキシャル層状構造の分析

高解像度X線回折は、エピタキシャル層、ヘテロ構造、及び超格子系の強力な非破壊構造解析ツールです。 これは工業生産やエピタキシャル成長構造の発生段階で使用されている標準ツールです。

回折パターンからエピタキシャル層の合金組成と均一性、層の厚さ、ひずみとひずみ緩和、層の転位密度に関する結晶完全性など、多くの重要な情報が得られます。 界面の相互拡散や混合の形成でさえ、特定の状況下で調査できます。

迅速な検査のために、基板や層のピーク位置を分析に使用できます。 ただし、一般に動的散乱理論に基づくフルパターンシミュレーションは、関連するパラメータの定量化に用いられます。

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X線回折装置(XRD)Empyreanシリーズ

X線回折装置(XRD)Empyreanシリーズ

分析ニーズに対応する多目的ソリューション

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD

多目的研究開発XRDシステム

X'Pert³ MRD XL

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薄膜単結晶解析X線回折装置

技術
XRD分析
測定タイプ
エピタキシー分析
相同定
位相の定量化
界面粗さ
薄膜測定
残留応力
配向分析
逆格子空間解析
粒子形状
粒子径
結晶構造の解析
汚染物質の検出と分析
3D構造/画像処理