Dünnschichten-Analyse

Dünnschichtanalyse mit Röntgenstrahlen

Die Röntgenstrahlen-Messtechnik ist das ideale Werkzeug für die Dünnschichtanalyse bei der Entwicklung und Massenproduktion verschiedener Layer-strukturierter mikro- und optoelektronischen Geräten. Messwerkzeuge auf Basis von Röntgenmethoden wie XRD, XRR und RFAbieten nachweislich schnellen, zerstörungsfreien, zuverlässigen und präzisen Zugriff auf kritische Dünnschichtparameter von ultradünnen Single-Layers bis hin zu komplexen Multi-Layer-Stapeln.

Röntgenmessverfahren haben mit Entwicklungen der Branche Schritt gehalten. Dies ist der Entwicklung neuer Anwendungen und Technologien zu verdanken. Somit stellen sie weiterhin unverzichtbare Werkzeuge dar: von der F&E-Phase über die Pilotproduktion bis zur vollständig automatisierten Fertigung von Halbleiterbauelementen.

Zetium

Zetium

Elementare Leistung

Axios FAST

Axios FAST

Hoher Probendurchsatz

2830 ZT

2830 ZT

Fortgeschrittene Lösung für die Halbleiter-Dünnschicht-Messtechnik

Epsilon 4

Epsilon 4

Schnelle und genaue Vor-Ort-Elementanalyse

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD

Vielseitiges Röntgendiffraktometer für Forschung und Entwicklung

X'Pert³ MRD XL

X'Pert³ MRD XL

Vielseitiges Röntgendiffraktometer für Forschung, Entwicklung und Qualitätskontrolle

Typ der Messung
Dünnschicht-Messtechnik
Technologie
Wellenlängendispersive Röntgenfluoreszenzanalyse (WDRFA)
Röntgenbeugung (XRD)
Energiedispersive Röntgenfluoreszenzanalyse (EDRFA)