Dünnschicht-Messtechnik

Dünnschichtanalyse mit Röntgenstrahlen

Die Röntgenstrahlen-Messtechnik ist das ideale Werkzeug für die Dünnschichtanalyse bei der Entwicklung und Massenproduktion verschiedener Layer-strukturierter mikro- und optoelektronischen Geräten. 

Röntgenstrahlen-Messtechniken haben mit den Fortschritten in der Branche durch die Entwicklung neuer Layer-basierter Anwendungen und Technologien mitgehalten. 

Von der F&E-Phase über die Pilotproduktion bis hin zur vollumfänglichen automatisierten Fertigung von Halbleiterbauelementen dienen sie weiterhin als wichtige Werkzeuge.

Lösungen zur Dünnschichtanalyse

Messwerkzeuge auf Basis von Röntgenmethoden wie XRD, XRR und RFAbieten nachweislich schnellen, zerstörungsfreien, zuverlässigen und präzisen Zugriff auf kritische Dünnschichtparameter von ultradünnen Single-Layers bis hin zu komplexen Multi-Layer-Stapeln.

Weitere Informationen zu unseren Dünnschichtanalysegeräten finden Sie unten.

Zetium

Zetium

Elementare Leistung

Axios FAST

Axios FAST

Hoher Probendurchsatz

2830 ZT

2830 ZT

Fortgeschrittene Lösung für die Halbleiter-Dünnschicht-Messtechnik

Epsilon 4

Epsilon 4

Schnelle und genaue Vor-Ort-Elementanalyse

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD

Vielseitiges Röntgendiffraktometer für Forschung und Entwicklung

X'Pert³ MRD XL

X'Pert³ MRD XL

Vielseitiges Röntgendiffraktometer für Forschung, Entwicklung und Qualitätskontrolle

Typ der Messung
Dünnschicht-Messtechnik
Technologie
Wellenlängendispersive Röntgenfluoreszenzanalyse (WDRFA)
Röntgendiffraktometrie (XRD)
Energiedispersive Röntgenfluoreszenzanalyse (EDRFA)