X線測定は、エピタキシャルの層構造LEDなどの大量生産・開発において化合物半導体の薄膜分析を行うのに最適なツールです。XRD、XRR、XRFなどのX線分析法をベースとした測定ツールは、エピタキシャル層、ヘテロ構造、超格子システムの重要な物質パラメータのex-situ検証で大きな効果を発揮することが実証されています。