Введение 

Рентгеновская флуоресцентная спектрометрия (XRF) представляет собой метод неразрушающего контроля, используемый для анализа элементного состава материалов. Она применяется в таких отраслях, как производство цемента, производство стекла, добыча полезных ископаемых, обогащение минералов, производство чугуна, стали и цветных металлов, добыча нефти и получение нефтепродуктов, производство полимеров, фармацевтическая промышленность, производство медицинских препаратов и защита окружающей среды. Спектрометрические системы делятся на две основные группы: волнодисперсионные рентгеновские флуоресцентные системы (WDXRF) и энергодисперсионные системы (EDXRF). Они различаются по принципу обнаружения. 

Что такое волнодисперсионная рентгеновская флуоресцентная спектрометрия (WDXRF) и как она работает?

Базовая концепция любого спектрометра включает источник излучения, образец и систему обнаружения. В спектрометрах WDXRF рентгеновская трубка, действующая как источник, облучает непосредственно образец, а волнодисперсионная система измеряет флуоресценцию образца. Характеристическое излучение, исходящее от каждого отдельного элемента, можно идентифицировать с помощью кристаллов-анализаторов, которые разделяют рентгеновские лучи в зависимости от длины волны или энергии. Такой анализ можно выполнить путем последовательного или одновременного (в фиксированных положениях) измерения интенсивности рентгеновских лучей на разных длинах волн. ​

Преимущества спектрометрии WDXRF

  • Высокое разрешение, особенно для более легких элементов
  • Низкие пределы обнаружения, особенно для более легких элементов
  • Надежные результаты анализа
  • Высокая эффективность

Axios FAST

Axios FAST

Высокая производительность

Подробнее
Измерение Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
Скорость обработки образца 240per 8h day - 480per 8h day
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Zetium

Zetium

Элементное превосходство

Подробнее
Измерение Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
Скорость обработки образца 160per 8h day - 240per 8h day
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Подробнее
Измерение Химический состав, Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV
Скорость обработки образца up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Axios FAST

Axios FAST

Высокая производительность

Zetium

Zetium

Элементное превосходство

2830 ZT

2830 ZT

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Подробнее Подробнее Подробнее
Измерение Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Elemental quantification Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification Химический состав, Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U Be-U Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV 35eV 35eV
LLD 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
Скорость обработки образца 240per 8h day - 480per 8h day 160per 8h day - 240per 8h day up to 25 wafers per hour
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)