Рентгенофлуоресцентная спектрометрия (XRF) представляет собой метод анализа химического состава широкого диапазона образцов, в том числе твердых и жидких веществ, суспензий и сыпучих порошков. Рентгенофлуоресцентная спектрометрия (XRF) также применяется для определения толщины и состава слоев и покрытий. Возможен анализ элементов от бериллия (Be) до урана (U) в концентрациях от 100% по массе до очень низких концентраций.

Рентгенофлуоресцентная спектрометрия - это надежный метод, который сочетает высокую точность и достоверность результатов с простой и быстрой процедурой подготовки образцов. Ее можно легко автоматизировать для использования в высокопроизводительных промышленных системах; кроме того, XRF позволяет получать одновременно качественную и количественную информацию об образце. Простое сочетание ответов на вопросы «что?» и «сколько?» позволяет проводить быстрый классификационный (полуколичественный) анализ.

Рентгенофлуоресцентная спектрометрия представляет собой метод атомной эмиссии, который аналогичен оптикоэмиссионной спектрометрии (OES), спектроскопии с индуктивно связанной плазмой (ICP) и методу импульсной быстрой активации тепловыми нейтронами (гамма-спектроскопия). В таких методах выполняется измерение длины волны и интенсивности «излучения» (в данном случае рентгеновских лучей), испускаемого возбужденными атомами образца. В рентгенофлуоресцентной спектрометрии облучение первичным рентгеновским лучом из рентгеновской трубки вызывает излучение флуоресцентных рентгеновских лучей с дискретными энергиями, характерными для элементов, присутствующих в образце.

Технология, используемая для разделения (дисперсии), идентификации и измерения интенсивности спектра рентгеновской флуоресценции образца, позволяет выделять два основных типа спектрометров: дисперсионные системы обнаружения по длинам волн (WDXRF) и энергодисперсионные (EDXRF) системы.

Серия Epsilon

Серия Epsilon
Подробнее
Измерение Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Na-Am, C-Am
Разрешение (Mg-Ka) 145eV
LLD 1 ppm - 100%
Технология Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

Epsilon Xflow

Epsilon Xflow

Прямой мониторинг производственного процесса

Подробнее
Измерение Elemental analysis
Диапазон элементов Na-Am
Разрешение (Mg-Ka) 135eV
LLD 1 ppm - 100%
Скорость обработки образца on-line
Технология Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

Zetium

Zetium

Элементное превосходство

Подробнее
Измерение Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
Скорость обработки образца 160per 8h day - 240per 8h day
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

Axios FAST

Axios FAST

Высокая производительность

Подробнее
Измерение Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
Скорость обработки образца 240per 8h day - 480per 8h day
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Подробнее
Измерение Химический состав, Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 35eV
Скорость обработки образца up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Технология Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Серия Epsilon

Серия Epsilon

Epsilon Xflow

Epsilon Xflow

Прямой мониторинг производственного процесса

Zetium

Zetium

Элементное превосходство

Axios FAST

Axios FAST

Высокая производительность

2830 ZT

2830 ZT

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Подробнее Подробнее Подробнее Подробнее Подробнее
Измерение Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification Elemental analysis Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Elemental quantification Химический состав, Исследования тонких пленок, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Диапазон элементов Na-Am, C-Am Na-Am Be-U Be-U Be-U
Разрешение (Mg-Ka) 145eV 135eV 35eV 35eV 35eV
LLD 1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
Скорость обработки образца   on-line 160per 8h day - 240per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour
Технология Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Zetium

Серия Epsilon

Axios FAST

2830 ZT

Zetium Серия Epsilon Axios FAST 2830 ZT

Элементное превосходство

Высокая производительность

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Подробнее Подробнее Подробнее Подробнее
Анализируемые свойства
Исследования тонких пленок
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification
Химический состав
Технология
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
Диапазон элементов Be-U Na-Am, C-Am Be-U Be-U
LLD 0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
Разрешение (Mg-Ka) 35eV 145eV 35eV 35eV
Скорость обработки образца 160per 8h day - 240per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour